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●卧式真空炉用途:广泛应用于碳化硅陶瓷烧结工艺,碳化硅陶瓷膜烧结工艺,硬质合金、粉末冶金各种烧结。●卧式真空炉特点:1.zui高设计温度:2500℃,常用温度2400℃以内的烧结、碳化、石墨化等热处理;2.工作气氛:真空置换Ar2、N2
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●卧式真空炉用途:广泛应用于碳化硅陶瓷烧结工艺,碳化硅陶瓷膜烧结工艺,硬质合金、粉末冶金各种烧结。●卧式真空炉特点:1.zui高设计温度:2500℃,常用温度2400℃以内的烧结、碳化、石墨化等热处理;2.工作气氛:真空置换Ar2、N2